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箱式真空钼丝炉结构说明与技术参数

日期:2020-03-31 20:20
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摘要:
    箱式真空钼丝炉设备主要用在大专院校、科研单位及生产企业在真空或保护气氛条件下对材料进行烧结处理。立式结构,适用于金属材料在高真空,高温条件下进行退火、钎焊、烧结、除气处理,同时也适用于石英材料的脱羟处理。

箱式真空钼丝炉结构说明
    此设备由炉体、真空系统及电气控制系统等组成。
    炉盖、炉体及炉底均采用双层水冷结构,炉壳温度不超过50℃。测温采用钨铼热电偶,保证了测温精度。真空系统采用二级泵或三级泵,如客户有要求可增加分子泵。电器元件均为品牌产品,所用程序仪表,客户可自行设定程序,自动完成烧结过程。

主要技术参数
    本设备温度范围:室温~1600℃            
    真空度:10-3Pa      
    其它参数(工作区尺寸、真空度等)根据客户工艺及要求来制作

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